В России создали установку для производства микросхем

Российские инженеры разработали установку для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Опытный образец создан в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ), входящем в группу компаний «Элемент».

Похожие записи

На Украине заявили о перегруженности системы ПВО

Мар 3, 2025  0

Что будет, если дрон столкнётся с самолётом?

Фев 2, 2025  0

Пользователи I*******m теперь смогут планировать отправ...

Фев 20, 2025  0

Комментарии

Имя

Электронная Почта

Комментарий

Оставить комментарий