Создана установка плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах
© tehnoomsk.ruРоссийское предприятие НИИТМ (Зеленоград, Москва) завершило разработку и выпустило опытный образец первой отечественной установки плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах. Это оборудование востребовано в программах по созданию российской микроэлектронной промышлености, ранее аналогичные установки приобретались за рубежом, а имевшиеся отечественные работали с пластинами меньшего размера, что снижало количество готовых чипов и повышало их стоимость. На разработку и создание действующей первой российской установки для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм ушло менее 4 лет (проект стартовал в 2021 году). Разработанные и внедренные в оборудовании российские технологии позволяют работать не только с&n...
© tehnoomsk.ru
Российское предприятие НИИТМ (Зеленоград, Москва) завершило разработку и выпустило опытный образец первой отечественной установки плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах. Это оборудование востребовано в программах по созданию российской микроэлектронной промышлености, ранее аналогичные установки приобретались за рубежом, а имевшиеся отечественные работали с пластинами меньшего размера, что снижало количество готовых чипов и повышало их стоимость.
На разработку и создание действующей первой российской установки для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм ушло менее 4 лет (проект стартовал в 2021 году). Разработанные и внедренные в оборудовании российские технологии позволяют работать не только с&n...
