Создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нанометров
Российская компания, являющаяся резидентом ОЭЗ "Технополис Москва", представила первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нм.

Или зарегистрироваться по электронной почте
Мар 2, 2025 0
Мар 6, 2025 0
Апр 10, 2025 0
Апр 10, 2025 0
Апр 10, 2025 0
Этот сайт использует файлы cookie. Продолжая просматривать сайт, вы соглашаетесь на использование нами файлов cookie.