Создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нанометров

Российская компания, являющаяся резидентом ОЭЗ "Технополис Москва", представила первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нм.

Мар 25, 2025 - 11:56
 0
Создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нанометров
Российская компания, являющаяся резидентом ОЭЗ "Технополис Москва", представила первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нм.