«Микрон» начал тестирование первого российского фоторезиста для микросхем 90 нм
Компания «Микрон», резидент особой экономической зоны «Технополис Москва», тестирует первый отечественный фоторезист для производства микросхем по 90-нанометровому процессу. Об этом сообщил заммэра Москвы Максим Ликсутов. Разработка позволит снизить зависимость от зарубежных материалов в микроэлектронике.
Компания «Микрон», резидент особой экономической зоны «Технополис Москва», тестирует первый отечественный фоторезист для производства микросхем по 90-нанометровому процессу. Об этом сообщил заммэра Москвы Максим Ликсутов. Разработка позволит снизить зависимость от зарубежных материалов в микроэлектронике.
