Создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм
© tass.ruКомпания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. Фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом «Планар». «В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства» — говориться в сообщении.
© tass.ru
Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. Фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом «Планар».
«В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства» — говориться в сообщении.
